Галузі застосування матеріалів мішеней з танталу

В основному використовується у фізичному осадженні з парової фази та інших процесах, під час процесу розпилення атоми на поверхні танталової мішені бомбардуються та осідають у формі тонкої плівки на підкладці для отримання бажаного тонкоплівкового матеріалу.
Точка плавлення танталу досягає 2996 градусів, що дозволяє танталовим мішеням зберігати добру структурну стабільність у високо-температурному середовищі розпилення та не легко деформуватися чи випаровуватися. Щільність зазвичай перевищує 16,6 г/см³, що може зменшити проблеми з розтріскуванням або деформацією під час напилення, одночасно зменшуючи розбризкування частинок і покращуючи якість плівки. При температурі розпилення він не легко випаровується, що забезпечує мінімальні втрати цільового матеріалу під час процесу напилення та забезпечує стабільні атоми танталу для осадження тонкої плівки.
Хімічні властивості танталу дуже стабільні, і він майже не реагує з іншими кислотами, крім фтористоводневої кислоти та гарячої концентрованої сірчаної кислоти. Він також може використовуватися протягом тривалого часу в жорстких хімічних середовищах, а плівка з танталу, виготовлена ​​з нього, також має хорошу стійкість до корозії. Поверхня танталу схильна до утворення щільної та стабільної пасиваційної плівки оксиду танталу, яка може ефективно запобігати подальшій окислювальній корозії та покращувати термін служби матеріалу.
Область застосування
У виробництві інтегральних схем танталові цільові матеріали використовуються для підготовки дифузійних бар’єрних шарів, запобігання дифузії мідних з’єднань у кремнієві підкладки, підвищення надійності та продуктивності пристроїв, а також можуть використовуватися як матеріали затворів або частини металевих затворів для МОП-транзисторів, а також як електроди конденсаторів у пристроях пам’яті високої-щільності, таких як DRAM.
У виробництві рідкокристалічних дисплеїв (РК) і органічних світло{0}}діодів (OLED) танталові мішені використовуються для підготовки електродів і шарів проводки тонкоплівкових транзисторів (TFT). Їх стабільність і провідність допомагають покращити якість відображення. Крім того, їх також можна використовувати як шари інкапсуляції тонкої плівки в OLED, щоб подовжити термін служби пристрою.
Танталові плівки високої-чистості, які використовуються для виготовлення оптичних плівок, таких як антивідбиваючі покриття або фільтри, мають рівномірний показник заломлення та гарну довговічність, придатні для точних оптичних приладів, таких як лінзи камер і лазерних пристроїв. У хімічних, нафтових, морських та інших середовищах анти-корозійні покриття з танталових мішеней можуть ефективно захистити обладнання, трубопроводи та контейнери від корозії.