Цільові характеристики Hafnium
Форма цільової форми Hafnium: плоска ціль, спеціальна - налаштування форми
Чистота цільової гафнію: 3N5
Розмір цільової цільової гафнію: обробляється відповідно до малюнків або налаштованих іншими
Ми також можемо забезпечити провід Hafnium, Hafnium Leate, Hafnium Granules, Hafnium Stod, Hafnium Powder тощо.
Підготовка процесу підготовки цільової цільової підготовки Hafnium: Гафнієвий метал - це сировина цільової цілі хафнію, яку потрібно готувати шляхом зменшення тетрахлориду хафнію або фториду хафнію. Обробка металу Hafnium: метал Hafnium переробляється у необхідну форму та розмір, як правило, кування, розтягування, різання та інші методи обробки. Очищення цілі хафнію: очистіть домішки та оксиди на поверхні цілі хафнію, щоб забезпечити чистоту матеріалу. Обробка та тестування цілей гафнію: розтопіть кристалізовані бруски хафнію в злиті, обробляють злитки в цілі необхідної форми та розміру, а потім суворо перевіряють чистоту та розмір зерна, щоб забезпечити якість цілей гафнію відповідає вимогам. Вищезазначені - це основні етапи підготовки цілей гафнію. Процеси підготовки різних виробників можуть змінюватися, але загалом вони базуються на вищезазначених етапах.
Опис цільового цільового
Назва продукту: Tantalum Target
Бренд: TA1 TA2
Чистота: більше або дорівнює 99,95% 99,99%
Щільність: 16.66г/см3
Застосування: Цілі для розпилення Танталу - це тантал -аркуші, отримані за допомогою обробки тиску, з високою хімічною чистотою, невеликим розміром зерна, хорошою перекристалізацією
Організація та послідовність у трьох осях, в основному використовуються для осадження оптичних волокон, напівпровідникових вафель та інтегрованих схем
Покриття, цілі Tantalum можуть бути використані для катодних розпилювальних покриттів, високих вакуумних активних матеріалів тощо. Це важливий матеріал для технології тонкої плівки.
