Вольфрам-титанові мішені для напилення

Вольфрам-титанові мішені для напилення:

Наші вольфрамово-титанові мішені для розпилення виготовляються з використанням передових методів порошкової металургії. Ми пропонуємо мішені для напилення WTi різних розмірів, діаметром до 400 міліметрів. Ми є одними з перших виробників, які створили WTi як обертову та планарну мішені. Вміст титану в наших мішенях WTi зазвичай становить 10% за вагою.

Вольфрам-титанові мішені для розпилення

Вольфрам-титановий сплав

Області застосування вольфрам-титану:
Вольфрам-титан (WTi), який містить 10% титану за масою, використовується як металізаційний клей і дифузійний бар’єр у мікросхемах. У цьому випадку WTi використовується для відділення металізації та напівпровідникових шарів, таких як мідь від кремнію або алюміній від кремнію. Без дифузійних бар'єрів кремній і мідь об'єдналися б, щоб створити інтерметалічну фазу в мікрочіпах, що погіршило б продуктивність напівпровідника. Бар’єрний шар WTi використовується в гнучких тонкоплівкових сонячних елементах (CIGS), щоб зупинити дифузію іонів заліза через задній контакт молібдену в напівпровідник. Ефективність сонячних елементів CIGS може бути значно знижена лише кількома г/г заліза.

a. Порошкова металургія використовується для створення мішеней для напилення з вольфраму та титану, які широко використовуються у виробництві напівпровідників і тонкоплівкових сонячних елементів.

Тонка плівка b.WTi10wt% використовується в напівпровідниках як адгезійний шар і дифузійний бар’єр для ізоляції шарів металізації від напівпровідника, наприклад міді або алюмінію від кремнію. В результаті функція транзистора в мікросхемах може бути значно покращена.

Тонка плівка c.WTi10wt% також використовується в тонкоплівкових сонячних батареях як бар’єрний шар для запобігання дифузії іонів заліза від сталевої підкладки до молібденового тильного контакту та напівпровідника CIGS. Мішені з титану вольфраму також використовуються для покриття інструментів і світлодіодів .

На двох малюнках під схематичною конструкцією сонячної батареї CIGS ліворуч показано металізацію напівпровідника фліп-чіпа з використанням шарів WTi.

Якість шару підвищується з чистотою речовини покриття. Щоб забезпечити найвищий рівень чистоти матеріалу, ми використовуємо лише найчистіший порошок і змішуємо його на наших власних підприємствах із самого початку. Від порошку до готового продукту ми уважно стежимо за кожною стадією, щоб переконатися, що лише мішені з точною гарантованою щільністю, чистотою та однорідною мікроструктурою залишають наше підприємство.

Наша фабрика здатна виробляти мішені з WTi 90/10% по масі, WTi 85/15% по масі та спеціального складу вольфрамово-титанових мішеней, які можна налаштувати. Щільність фактичних мішеней > 99%, а типовий розмір зерна становить 100 мкм. Кінцеві користувачі можуть досягти постійної швидкості ерозії та високої чистоти та однорідного тонкоплівкового покриття під час процесу PVD із чистотою до 4N5 та спеціальною обробкою відпалу, рівномірним розміром зерна та зниженим вмістом газу.

Якщо у вас є якісь потреби чи запитання, будь ласка, зв’яжіться з нами.

 

 

ЗВ'ЯЖІТЬСЯ З НАМИ

Менеджер з продажу:

Контактна особа: Лі Фенву

Email: kd@tantalumysjs.com

Тел.: 13379388917

Факс: 0917-3139100

Поштовий індекс: 721013

Веб-сайт: https://www.tantalumysjs.com/

Додати: промислова зона села Веньцюань, зона розвитку Гаосін, місто Баоцзі, провінція Шеньсі, Китай

Популярні Мітки: вольфрамові титанові напилювальні мішені, постачальники, виробники, фабрика, індивідуальні, купити, ціна, ціна, якість, продаж, в наявності